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    思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021,探索從微觀到宏觀層面的ALD光學應用創新

      2021年10月11日  

      光學薄膜的應用十分廣泛,從精密的光學儀器到光纖通訊、顯示器、數碼相機,乃至鈔票上的防偽技術,均不乏其身影。一般而言,光學薄膜是指在光學玻璃、光纖、晶體等各種材料的表面上鍍制一層或多層薄膜,并利用薄膜內光的干涉效應來改變透射光或反射光的強度、偏振狀態和相位變化的光學元件;而制備的過程則稱為“光學鍍膜”,且工藝眾多,例如物理氣相沉積法(PVD)、離子束輔助沉積法、溶膠-凝膠法等。不過,隨著光電系統微縮化、基底材料多元化以及各類行業應用的創新迭代,以PVD為代表的傳統薄膜制備方法在膜層厚度控制、致密性、保形性等方面逐漸顯現其不足,而原子層沉積技術(ALD)無論對于納米結構的微觀層面或任意形態光學器件的宏觀層面,均可以原子級精度調整光學材料的特性,成為了當下光學鍍膜解決方案的“香餑餑”。

      近日,業界領先的ALD設備制造商和服務商——思銳智能攜旗下Beneq品牌重磅亮相第23屆中國國際光電博覽會(以下簡稱CIOE2021),并分享ALD設備的主流產品以及在光學領域的眾多創新解決方案。談及ALD技術在該領域的應用前景時,思銳智能總經理聶翔表示:“無論從前端模組到后端器件的光學鍍膜應用,思銳智能以先進的ALD技術提供了一站式的解決方案,能夠滿足客戶從研發、中試線到工業化量產的全方位鍍膜需求?!?/FONT>

    圖1:SRII旗下品牌BENEQ亮相光博會,展示光學領域的ALD創新應用

    圖2:思銳智能總經理聶翔在展會現場接受央視媒體采訪

    加速“ALD光學鍍膜”擴產步伐,SRII產學研布局促進行業發展

      眾所周知,穩定的光學性能要求高度均勻性的薄膜材料。根據光學性能的要求,典型光學薄膜的膜層厚度均勻性要求在1%左右。以大直徑球型光學透鏡的鍍膜為例,思銳智能副總經理陳祥龍指出:“通過使用Beneq P400A ALD設備在球型透鏡表面鍍膜的測試,在批量生產中,經過全方位角度測量,所有鍍膜樣品的薄膜不均勻性僅為1.2%,這在業界屬于非常領先的一項基準?!迸c此同時,SRII面向光學領域持續拓展生態合作版圖——SRII攜手浙江大學光學與光電子薄膜研究所正式簽訂戰略合作協議,基于公司P400A系列設備共建聯合實驗室,用于技術開發和應用創新,促進產學研合作、助力國內半導體和先進光學等相關行業的高速發展。

    圖3:思銳智能 ALD光學鍍膜解決方案引起業界人士圍觀

      實際上,Beneq P系列設備是專為工業規模生產設計的原子層沉積系統,包括P400A、P800以及最新的P1500等多個型號,均搭載高容量反應器,克服了同類ALD設備的沉積速率慢、不兼容大尺寸產品、難以大規模生產等局限,是從研發階段到大規模工業化生產的理想工具,可用于光學鍍膜、半導體設備零部件鍍膜、以及OLED和電子器件的防潮鍍膜等當下前沿的應用市場。此外,P系列設備還支持定制反應腔的配置選項,適用于各種基底;而且反應腔易于更換,從而最大限度減少了因維護造成的停機時間。

    圖4:SRII展示旗下Beneq品牌P800 ALD設備模型

      除了P系列工業量產型ALD設備,新一代空間ALD設備同樣獲得了業界人士的廣泛關注。據悉,Beneq C2R設備屬于“第一個吃螃蟹者”,首次將旋轉等離子體增強型ALD(PEALD)工藝應用于大批量生產并獲得成功,是超快速提升產能的ALD鍍膜解決方案。由于Beneq C2R設備采用了旋轉PEALD工藝,其沉積的薄膜厚度可達到每小時幾微米。因此,在選擇高沉積速率、低成本、低工藝溫度及最佳薄膜質量的ALD設備時,Beneq C2R是理想之選。

    拓展ALD創新邊界,Transform系列接棒激光雷達等微納光學系統鍍膜應用

      為了應對光電系統微縮化以及結構復雜化的發展趨勢,ALD鍍膜技術也在持續改進與優化,從而適應市場要求。以當下熱門的激光雷達(Lidar)為例,盡管Lidar系統有不同類型的結構,但是關鍵的組成部件如激光器和二極管、光學元件、基于固態Lidar的波控、光電探測器以及信號處理單元等在其制備過程中都不可避免地需要ALD鍍膜工藝。

    圖5:Lidar系統的VCSEL器件需要復雜的鍍膜工藝以實現功能完整性

      對此,陳祥龍表示:“先進的ALD鍍膜技術能夠最大程度地提高器件的光電性能和可靠性指標。Beneq Transform系列十分適用于Lidar等微納級別的光電系統,其優異的ALD鍍膜工藝在微觀層面上仍可維持超高保形性、薄膜致密性、膜厚精確控制等眾多優點。我們致力于把ALD技術推向一個新高度,打破對ALD生長速度慢的固定思維,通過開發P系列、C2R系列、Transform系列以及即將推出的GENESIS系列等豐富的產品線,進一步推動ALD技術進入更多產業化的應用場景!”

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